日本の半導体洗浄技術をサムスンが30年かけ開発→中国へ流出の試みが発覚

日本の半導体洗浄技術をサムスンが30年かけ開発→中国へ流出の試みが発覚

1: 名無し 2025/01/20(月) 20:21:42.78 ID:j/+TG9fF0● BE:662593167-2BP(2000)
サムスン電子と子会社が開発した「国家核心技術」である半導体洗浄装備を中国企業に輸出した一味が裁判にかけられる。容疑者らは「独自開発したもの」としながら容疑を否認したが、検察が新たに開発したデータ解析技法で技術原本の痕跡である「デジタル指紋」を確認して犯行のすべてが明らかになった。
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